photomask

光掩模

常用释义

词性释义

n.

光罩;[电子] 光掩模
例句
  • 全部
These nodes may then be cross mapped from the circuit design onto the chips layout for each of multiple photomask layers within the design.
然后,这些节点从电路设计交互映射到设计中复合光掩模层的每一层芯片布局中。
介绍了一种较为先进的光罩可制造性规则检查的方法及其系统构成。
此图显示的就是光掩膜,上面印有将打印到硅晶片上的图案。
In order to repair the clear defects of photomask, photolytic LCVD process is required to initiate the chemical reactions.
为了对透明光掩模亮场区域进行修补,需要光化学解离过程诱导反应发生;
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